OBLF VeOS
|
- Решает широкий круг практических задач промышленных лабораторий металлургических предприятий, включая производителей чистых металлов.
|
- Стационарный эмиссионный спектрометр, основанный на полупроводниковой сенсорной системе. Бескомпромиссная конструкция, сочетающая высокие аналитические показатели с невероятной гибкостью CCD/CMOS детекторов.
|
- Обеспечивает точный анализ коротковолновых элементов, напр. сера, фосфор, азот, низкие концентрации углерода в стали, фосфор в алюминии и т.д.
|
Детекторы
|
· Конструкция светочувствительных детекторов CMOS специально приспособлена для требований эмиссионной спектрометрии. Они отличаются большой светочувствительной поверхностью, которая в 100 раз больше, чем в сопоставимых системах.
|
- В VeOS применяются высококачественные эксклюзивные твердотельные детекторы, разработанные специально для эмиссионной спектроскопии
|
- Усовершенствована чувствительность сенсоров:большая площадь пиксела: узкие и высокие пикселы (для повышения разрешения и чувствительности)отсутствие органических покрытий для повышения чувствительности в УФ- диапазоне (как результат- долговременная стабильность)
|
- Истинная технология компенсации шума CDS (двойное сэмплирование)
|
- Улучшена чувствительность в УФ-области без органического покрытия
|
- Избирательная чувствительность для каждого сенсора
|
- 16 битное АЦП преобразование для измерения в большом динамическом диапазоне
|
- Быстрое считывание за 2 мс
|
- Отсутствие блюмингового эффекта (эффекта «распускания») благодаря специальной конструкции транзистора
|
- Охлаждение детекторов для уменьшения темнового шума и улучшения стабильности сигнала
|
- Технология объединения сигналов с пикселов для повышения аналогового сигнала (только для CMOS)
|
Необслуживаемый цифровой генератор GDS III
|
- Обеспечивает высочайшую степень воспроизводимости по всем параметрам возбуждения
|
- Улучшает точность и пределы обнаружения концентраций элементов
|
- Снижает межэлементные влияния и влияние фона
|
- Параметры возбуждения оптимизированы
|
- Программируемая частота разряда 1 Гц- 1 кГц
|
Искровой штатив
|
· Конструкция штатива позволяет получать оптимальный световой поток для элементов, возбужденных в различных областях плазмы, что крайне важно для определения следовых концентраций
|
- Оптимальный участок плазмы искры
|
- Запатентованная импульсная продувка аргоном
|
- Термостабилизация штатива
|
- Простой доступ для обслуживания
|
· Считывающая и обрабатывающая электроника полностью помещены в термостабилизированную вакуумную камеру.
|
Программное обеспечение
|
Базируется на концепции OBLF, сочетающей использование микропроцессоров для контроля работы отдельных устройств спектрометра и регистрации аналитических сигналов, с центральным управляющим ПК и аналитическим программным обеспечением на базе платформы Windows™. Управляется с помощью системы меню, оптимизировано для быстрой работы. Экранный интерфейс оператора на русском языке.
|
Возможности
|
- Обработка данных спектраразличные режимы сглаживания формы кривой спектральных линий (FFT, spline, Savitzky-Golay)«вычитание» фона для каждой линиипостоянная проверка профиля линиииспользование нескольких линий сравнения«Анализатор спектра» (позволяет увидеть на экране весь спектр, параметры канала)
|
- Технологии компенсации фона
|
- Расчет интенсивностей канала (n-Pixel-Integral, Gauss area, Peakheight)
|
- Виртуальная выходная щель шириной 3 – 100 pm
|
- Линейная интерполяция для «улучшения» спектрального разрешения
|
|
|
- Автоматическое профилирование с помощью ПО
|